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本系除一般教室及研討室外,有大、中型演講室各一間,視聽設備齊全。此外,另有一間普物演示廳,具有階梯座椅及旋轉講台,專供普物教學及示範實驗之用。本系學生另有專用的系學會辦公室、閱覽室及電腦室。本系主要的貴重儀器設備均位於系內各研究與教學實驗室內。本系還有一套功能完善之影片伺服器,配合普物實驗影片示範,為校內首創之多媒體教學建制。
掃瞄式電子顯微鏡(SEM):Model TOPCON-350。另有EDS及電子微影系統(NPGS)。
非晶態實驗室含有之主要儀器有X光粉末繞涉儀、原子吸收光譜、熱分析儀(熱重分析儀、熱差分析儀、熱容差分析儀)、交流阻抗分析儀、孔隙-表面積分析儀、各型管狀與箱型高溫爐。
半導體研究實驗室中目前設備比較完善的是低溫高磁實驗室,其主要的設備有Kelvin 25Dilution Refrigerator(稀釋致冷超低溫系統),溫度最低可達約25mK。Top Loading He3 System(上插式氨三低溫系統),溫度最低可達0.3K。超導電磁鐵可達13 Tesla。量測系統包括自動化低雜訊小訊號量測系統,以及可達18GHZ之自製超低訊號功率脈衝鎖相迴圈測量系統。
紅外線實驗室目前有完整的傅立葉轉換紅外線光譜儀光學系統,可以測量從可見光、紅外光到遠紅外光的所有波長。樣品準備設備主要有真空鍍膜、手套箱、高溫爐等。
超導/磁性物理實驗室之主要儀器有超導量子干涉磁量儀(SQUID)—磁場範圍:0~7 Tesla,多功能物理特性測量系統(PPMS)、封閉式迴路低溫冷卻系統(Closed-Cycle Cryogenic Refrigerator System)、4接頭交流電阻橋式量測系統(LR-700)/IEEE-488&RS-232、可照像高倍率(1000X)光學顯微鏡、可照像金相實體顯微鏡(6.7X-40X)與直流電容式點焊機(DC SpotWelder)。材料製作則有高功率交直流兩用氫焊機/電弧爐(Arc Furnace)、三溫區(1200°C)溫控管狀爐、1700°C溫控箱型、管狀高溫爐、1200°C、1500°C溫控箱型高溫爐、1100°C可通氣體溫控管狀高溫爐、拋磨機、高功率點焊機(1.5KVA)、精密切割機/鑽石切割片及材料製作手套箱。
表面物理實驗室之主要儀器有掃描式近場光學顯微系統、原子力顯微鏡、Langmuir—Blodgett分子薄膜鍍膜系統、Argon雷射與偏光角顯微鏡系統等。
計算物理教室有電腦工作站十餘台供分析與模擬計算等使用。

   
 
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